Samsung har redan sin tillverkningsprocess klar vid 8 nm

Samsung är en av världens ledande inom tillverkning av kiselchips och har ingen avsikt att slänga in handduken, den sydkoreanska jätten är redan redo för en ny, mer förfinad tillverkningsprocess för att förbättra prestandan för sina chips och de från tredje parter som vänder sig till dess gjuteri.

Samsung har redan 8 nm redo

Samsung har officiellt avslöjat att dess nya 8nm LPP (Low Power Plus) tillverkningsprocess är redo för produktion av de första chips, den nya processen erbjuder upp till 10% prestandaökning jämfört med företagets nuvarande 10nm-process och upp till 10% areareducering av transistorer.

Denna nod är en förfining av Samsungs befintliga 10nm produktionsnod, vilket gör att denna process faktiskt är 10nm +, men en namnändring tillämpas för marknadsföring, eftersom vi kommer ihåg att det inte finns någon standard när det gäller Mät storleken på transistorerna så att varje gjuteri kan uttrycka det annorlunda. Detta innebär att tillverkningsprocesserna för två företag kan vara mycket olika trots att de tydligen är samma nm.

NVIDIA: s vd säger att Moore's Law är död och GPU: er kommer att ersätta CPU: er

Fördelarna med denna nya processnod är det faktum att den bygger på Samsungs befintliga teknik, vilket gör att Samsung snabbt kan påskynda 8nm produktion genom att anpassa sin befintliga 10nm-teknik. Samsung har också kunnat klara kvalificeringen med denna nya nod tre månader före schemat, vilket gör att företaget kan producera 8nm funktionella chips före schemat.

8nm kommer att vara Samsungs sista nod innan den flyttade till EUV (Extreme Ultra Violet) med sin 7nm tillverkningsnod, som inleder en ny era för Moore's Law, vilket gör att tillverkare kan bryta några av de begränsningar som har varit foliering av framsteg i branschen.

7LPP kommer att vara den första halvledar-processtekniken som använder en EUV-litografilösning. I samarbete med Samsung och ASML utvecklades 250W av maximal EUV-kraft, vilket är den viktigaste milstolpen för införandet av EUV i högvolymproduktion. Implementeringen av EUV-litografi kommer att bryta hinder för Moores lagstiftning och bana vägen för generationer av enstaka nanometer halvledarteknologi.

Overclock3d-teckensnitt